A、氧化还原电位
B、丙酸盐和乙酸盐浓度比
C、挥发性酸 VFA
D、苯乙酸、甲硫醇
E、一氧化碳
答案：ABCDE
A、氧化还原电位
B、丙酸盐和乙酸盐浓度比
C、挥发性酸 VFA
D、苯乙酸、甲硫醇
E、一氧化碳
答案：ABCDE
A. 氧化沟基本构成包括：氧化沟池体、曝气设备、进出水装置、导流和混流装置
B. 采用氧化沟工艺处理城市污水时，必须设置初次沉淀池
C. 三沟式氧化沟无需设置专门二次沉淀池和污泥回流装置
D. 三沟式氧化沟将曝气、沉淀工序集于一体，并具有按时间顺序交替轮换运行的特点，其运转周期可根据处理水质的不同进行调整
A. 活性溴
B. 液氯
C. 液氨
D. 液氮
A. 对
B. 错
A. 正确
B. 错误
A. 正确
B. 错误
A. 正确
B. 错误
A. 水
B. 电
C. 气
D. 以上都对
A. 反渗透
B. 混凝沉淀
C. 电渗析
D. 过滤
A. 正确
B. 错误
A. 3-9
B. 4-9
C. 5-9
D. 6-9
