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化工分析工中级题库
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[T]A-B-O-005474:防止辐射的措施是()。

A、 控制辐射源的质量

B、 围封隔离放射源

C、 运用时间、距离和屏蔽三要素

D、 不使用辐射源

答案:ABC

化工分析工中级题库
[T]B-D-B-004424:当载气(N2)和空气的流量设定到合适值后,从最小可点火值开始逐渐提高氢气的流量,FID的响应值的变化趋势是()。
https://www.shititong.cn/cha-kan/shiti/000173a2-20df-4322-c0b9-c20b2b373400.html
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[T]B-B-C-016413:氧化还原掩蔽剂是配位滴定中应用最多的掩蔽剂。
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[T]B-B-C-017473:以下关于解蔽的方法叙述,正确的是()。
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[T]B-D-D-001472:使用液相进样阀进样,要避免()。
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[T]B-E-D-006472:对微库仑仪滴定池的维护工作包括()。
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[T]A-B-H-005421:2-丁烯与1-丁烯的异构因素是()。
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[T]A-B-I-003421:下述物理量中属于国际单位制中基本量的是()。
https://www.shititong.cn/cha-kan/shiti/000173a2-20d8-83da-c0b9-c20b2b373400.html
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[T]B-H-A-007411:硫化仪依据测试原理可分为有转子和无转子硫化仪两种。
https://www.shititong.cn/cha-kan/shiti/000173a2-20e4-5a6a-c0b9-c20b2b373400.html
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[T]A-B-G-014422:下列关于浓硫酸和稀硫酸的叙述中,正确的是()。
https://www.shititong.cn/cha-kan/shiti/000173a2-20d7-c6f7-c0b9-c20b2b373400.html
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[T]B-F-B-008424:SH0165规定,蒸馏过程中残压波动不得超过()毫米汞柱。
https://www.shititong.cn/cha-kan/shiti/000173a2-20e1-3ab5-c0b9-c20b2b373400.html
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题目内容
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多选题
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化工分析工中级题库

[T]A-B-O-005474:防止辐射的措施是()。

A、 控制辐射源的质量

B、 围封隔离放射源

C、 运用时间、距离和屏蔽三要素

D、 不使用辐射源

答案:ABC

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[T]B-D-B-004424:当载气(N2)和空气的流量设定到合适值后,从最小可点火值开始逐渐提高氢气的流量,FID的响应值的变化趋势是()。

A. 基本不变

B. 逐渐增大

C. 逐渐减小

D. 先增大,后减小

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[T]B-B-C-016413:氧化还原掩蔽剂是配位滴定中应用最多的掩蔽剂。

解析:解析:正确答案:配位掩蔽剂是配位滴定中应用最多的掩蔽剂。

https://www.shititong.cn/cha-kan/shiti/000173a2-20dd-084b-c0b9-c20b2b373400.html
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[T]B-B-C-017473:以下关于解蔽的方法叙述,正确的是()。

A. 解蔽法就是在某种金属离子滴定后,将已被配位掩蔽的另一种离子,用一试剂来破坏它与掩蔽剂的配合物,使其重新释放出来,再进行滴定

B. 由于值相近,所以Pb2+和Zn2+的混合液不能进行分别测定

C. 解蔽的方法适用于被配位掩蔽的离子

D. 解蔽的方法适用于任何被掩蔽的离子

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[T]B-D-D-001472:使用液相进样阀进样,要避免()。

A. 样品中有固体杂质堵塞进样阀

B. 进样阀内存在气泡

C. 阀体内样品发生交叉污染

D. 不同样品用一个进样阀进样

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[T]B-E-D-006472:对微库仑仪滴定池的维护工作包括()。

A. 滴定池的清洗

B. 电极的清洗

C. 滴定池的保存

D. 操作滴定池

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A. 碳链异构

B. 位置异构

C. 顺反异构

D. 既有碳链异构又有位置异构

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[T]A-B-I-003421:下述物理量中属于国际单位制中基本量的是()。

A. 质量与体积

B. 时间与温度

C. 长度与电流

D. 长度与体积

https://www.shititong.cn/cha-kan/shiti/000173a2-20d8-83da-c0b9-c20b2b373400.html
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[T]B-H-A-007411:硫化仪依据测试原理可分为有转子和无转子硫化仪两种。
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[T]A-B-G-014422:下列关于浓硫酸和稀硫酸的叙述中,正确的是()。

A. 常温时都能与铁发生反应,放出气体

B. 加热时都能与铜发生反应

C. 都能作为气体干燥剂

D. 硫元素的化合价都是+6价

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[T]B-F-B-008424:SH0165规定,蒸馏过程中残压波动不得超过()毫米汞柱。

A. 0.2

B. 0.5

C. 0.8

D. 1

https://www.shititong.cn/cha-kan/shiti/000173a2-20e1-3ab5-c0b9-c20b2b373400.html
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