A、 不拘泥于权利要求书中的文字记载,而是将权利要求书作为保护范围的中心
B、 全面考虑发明的目的、性质以及说明书和附图,把中心周围一定范围内的技术特征或技术方案都纳入专利权的保护范围
C、 根据说明书及附图、现有技术、专利对现有技术所做的贡献等因素合理确定专利权的保护范围
D、 严格以权利要求书的文字记载为唯一依据,不允许对权利要求作任何其他扩展解释
答案：C
解析：解析:折衷原则是指在确定专利权的保护范围时,既以权利要求书为依据,但又不完全局限于权利要求书的文字记载,而是根据说明书及附图、现有技术、专利对现有技术所做的贡献等因素合理确定专利权的保护范围。A、B选项属于中心限定原则的内容,D选项属于周边限定原则的内容。
A、 不拘泥于权利要求书中的文字记载,而是将权利要求书作为保护范围的中心
B、 全面考虑发明的目的、性质以及说明书和附图,把中心周围一定范围内的技术特征或技术方案都纳入专利权的保护范围
C、 根据说明书及附图、现有技术、专利对现有技术所做的贡献等因素合理确定专利权的保护范围
D、 严格以权利要求书的文字记载为唯一依据,不允许对权利要求作任何其他扩展解释
答案：C
解析：解析:折衷原则是指在确定专利权的保护范围时,既以权利要求书为依据,但又不完全局限于权利要求书的文字记载,而是根据说明书及附图、现有技术、专利对现有技术所做的贡献等因素合理确定专利权的保护范围。A、B选项属于中心限定原则的内容,D选项属于周边限定原则的内容。
A. 人力资源
B. 财务资源
C. 资源保障
D. 获取管理
解析：解析:《高等学校知识产权管理规范》规定了高等学校知识产权基础管理的内容,包括人力资源、财务资源、资源保障、基础设施、信息资源等方面的管理要求。
A. 国民待遇原则
B. 最惠国待遇原则
C. 公共利益原则
D. 最低保护标准原则
解析：解析:国民待遇原则是众多知识产权公约所确认的首要原则。
A. 独家许可
B. 独占许可
C. 普通许可
D. 分割许可
解析：解析:独占许可,是指商标注册人将注册商标仅许可一个被许可人在约定的期间、地域内以约定的方式使用,而许可人在上述约定范围内不得使用该商标。由题意,A、B公司签订的是独占许可合同。
A. 立即停止侵权行为
B. 被处以罚款
C. 被没收侵权产品
D. 被查封侵权产品
解析：解析:本题考查的是集成电路布图设计法律责任。民事法律责任包括:①停止侵权;②赔偿损失。
A. 需要富有美感
B. 需要有实用性
C. 不得与他人在先取得的合法权利相冲突
D. 需要有创新性
解析：解析:外观设计专利授权条件如下:rnrn1、需要有新颖性,即授予专利权的外观设计,应当同申请日以前在国内外出版物上公开发表过或者国内公开使用过的外观设计不相同和不相近似。rnrn2、需要有实用性,即授予专利权的外观设计必须适于工业应用。这要求外观设计本身以及作为载体的产品能够以工业的方法重复再现,即能够在工业上批量生产。rnrn3、需要富有美感,即授予专利权的外观设计必须富有美感。美感是指该外观设计从视觉感知上的愉悦感受,与产品功能是否先进没有必然联系。富有美感的外观设计在扩大产品销路方面具有重要作用。rnrn4、不得与他人在先取得的合法权利相冲突,这里的在先权利包括了商标权、著作权、企业名称权、肖像权、知名商品特有包装装潢使用权等。“在先取得”是指在外观设计的申请日或者优先权日之前取得。
A. 未经商标注册人许可,在同一种商品上使用与其注册商标相同的商标
B. 未经商标注册人许可,在同一种商品上使用与其注册商标近似的商标
C. 未经商标注册人许可,在类似商品上使用与其注册商标相同的商标
D. 未经商标注册人许可,在类似商品上使用与其注册商标近似的商标
E. 未经商标注册人许可,印制其注册商标
解析：解析:仿冒注册商标行为,包括三种情况:①在同一种商品上使用与他人注册商标相近似的商标;②在类似的商品上使用与他人注册商标相同的商标;③在类似的商品上使用与他人注册商标相近似的商标。
A. 停止侵权
B. 罚款
C. 消除影响
D. 赔偿损失
解析：解析:著作权侵权的民事责任包括停止侵害、赔偿损失、消除影响、赔礼道歉等。
A. 由甲乙二人协商解决
B. 由乙请求工商行政管理部门处理
C. 由乙请求仲裁机构进行处理
D. 向人民法院起诉
E. 由乙向人民政府上访
解析：解析:根据规定,对侵犯注册商标专用权的案件,首先由当事人协商解决;当事人不愿协商或者协商不成的,可以有两种处理方式:①由商标注册人或者利害关系人请求工商行政管理部门处理;②由商标注册人或者利害关系人向人民法院起诉。
A. 《马德里协定》只对《巴黎公约》的成员方开放
B. 我国是《马德里协定》的成员方
C. 《马德里协定》成员方的国民可以直接向世界知识产权组织国际局申请国际注册
D. 《马德里协定》旨在解决商标的国际注册问题
解析：解析:成员方的国民须在本国注册商标后,才可以向设在日内瓦的世界知识产权组织国际局申请国际注册。
A. 立项
B. 研究开发
C. 采购
D. 生产
E. 人才培养
解析：解析:《企业知识产权管理规范》规定了企业生产经营环节的知识产权管理要求,包括立项、研究开发、采购、生产、销售和售后等各环节,突出了全流程管理理念。
