A、对
B、错
答案：B
A、对
B、错
答案：B
A. 0.2
B. 0.5
C. 1
D. 1.5
A. 先测定氧，后测定氮
B. 先测定氮，后测定氧
C. 氧氮同时测定
D. 无所谓谁先测定
A. 用高能电子轰击金属靶
B. 利用同位素源衰变过程产生的X射线
C. 将初级X射线照射以产生二次X射线荧光
D. 同步辐射加速器
A. 陶瓷
B. 铂-金
C. 镍
D. 铁
A. 6个月
B. 1年
C. 2年
D. 5年
A. 10-3～10-4
B. 10-6～10-8
C. 10-5～10-6
D. 10-4～10-5
A. 化学干扰
B. 物理干扰
C. 电离干扰
D. 光谱干扰
A. 平移校正
B. 旋转校正
C. 谱线重叠校正
D. 光谱校正
E. 基体校正
A. 倾泻法
B. 少量多次
C. 抽滤法
D. 渗透法
A. 沉淀的溶解度
B. 共沉淀
C. 后沉淀
D. 玻璃器皿
E. 马弗炉
