109、 HE堤平面与上唇下缘的关系是 ( )

A. 　调磨早接触和干扰点

B. 　进行根管治疗

C. 　药物治疗

D. 　拔除患牙

E. 　保守观察

A. 　 加压印模

B. 　 初步印模

C. 　 功能性印模

D. 　 解剖式印模

E. 　 闭口印模

A. 　. 游离端缺失牙的患者

B. 　. 发音要求比较高的患者

C. 　. 需做赝复体的患者

D. 　. 需要在修复缺失牙同时升高颌间距离的患者

E. 　. 兼做义齿修复和松动牙固定的患者

A. 　组织面

B. 　磨光面

C. 　咬合面

D. 　HE平面

E. 　吸附面

A. 　用印模膏取一次性印模

B. 　用印模膏取初印模

C. 　用印模膏做个别托盘

D. 　用旧义齿做个别托盘

E. 　用藻酸盐印模材取终印模

A. 　1:1

B. 　1:2

C. 　2:3

D. 　3:2

E. 　3:4

A. 　根尖状况

B. 　牙槽骨状况

C. 　牙龈状况

D. 　咬合状况

E. 　固位体边缘

A. 　夹板固定作用

B. 　防止食物嵌塞作用

C. 　保护孤立牙作用

D. 　减轻(牙合)力作用

E. 　都不是

A. 　包括整个牙槽嵴

B. 　边缘伸展到唇、颊、舌沟处

C. 　上颌后缘伸展到腭小凹处

D. 　上颌两侧后缘伸展到翼上颌切迹,颊侧盖过上颌结节

E. 　下颌后缘盖过磨牙后垫

A. 　缺失牙数目和部位

B. 　基牙条件

C. 　咬合关系

D. 　年龄

E. 　以上均是