A、A.CaSO3
B、B.CaO
C、C.CaSO4·2H2O
D、D.CaCO3
E、E.CaSO4·1/2H2O
答案:AD
解析:### 背景知识
在燃煤电厂等工业设施中,脱硫装置的主要作用是去除烟气中的二氧化硫(SO₂),从而减少环境污染。脱硫的过程中通常使用石灰石(CaCO₃)或石灰(CaO)作为脱硫剂。这些脱硫剂与烟气中的SO₂反应,生成硫酸钙(CaSO₄)或亚硫酸钙(CaSO₃)等产物。
### pH值对结垢的影响
在脱硫系统中,pH值的控制是非常重要的。如果pH值过高,会导致脱硫液体中某些成分的溶解度下降,从而形成结垢。常见的结垢物质包括硫酸钙(CaSO₄)、亚硫酸钙(CaSO₃)等。下面详细解析每个选项。
#### 选项分析
**A: CaSO₃(亚硫酸钙)**
- **解释**:在脱硫过程中,亚硫酸钙是脱硫反应的中间产物,通常是在脱硫液的pH值较低时形成。当pH值升高时,CaSO₃的溶解度减少,这会导致其在系统中析出形成结垢。因此,pH值过高时,CaSO₃是一个常见的结垢物质。
- **结论**:选项A是正确的。
**B: CaO(石灰)**
- **解释**:CaO(石灰)通常是用作脱硫的原料,而不是结垢物质。石灰在水中会生成氢氧化钙(Ca(OH)₂),它本身不会在脱硫过程中形成结垢。
- **结论**:选项B是错误的。
**C: CaSO₄·2H₂O(石膏)**
- **解释**:石膏(CaSO₄·2H₂O)是一种常见的结垢物质,它的形成通常是在pH值较高时发生的。石膏是由硫酸钙(CaSO₄)与水结合形成的。pH值过高时,CaSO₄的溶解度降低,从而生成石膏。
- **结论**:选项C是正确的。
**D: CaCO₃(碳酸钙)**
- **解释**:碳酸钙(CaCO₃)的溶解度与pH值密切相关。pH值较高时,CaCO₃的溶解度下降,容易形成结垢。因此,当pH值过高时,CaCO₃也是可能形成的结垢物质。
- **结论**:选项D是正确的。
**E: CaSO₄·1/2H₂O(半水石膏)**
- **解释**:半水石膏(CaSO₄·1/2H₂O)是一种在一定条件下形成的结垢物质,但它的形成通常与pH值的变化关系不如CaSO₃、CaCO₃和CaSO₄·2H₂O明显。pH值过高时,它的形成可能性较低。
- **结论**:选项E是错误的。
### 总结
在脱硫运行中,pH值过高会导致亚硫酸钙(CaSO₃)、碳酸钙(CaCO₃)和硫酸钙(CaSO₄·2H₂O)的结垢。因此,正确的选项是 **A** 和 **C**。
为了帮助你更好地记住这些内容,你可以联想到实际的情况。例如,想象你在厨房里煮水,如果水中含有很多矿物质,当你加热水的时候,水分蒸发后矿物质就会沉积在锅底,形成结垢。这与脱硫系统中由于pH值控制不当而导致的结垢过程有相似之处。
A、A.CaSO3
B、B.CaO
C、C.CaSO4·2H2O
D、D.CaCO3
E、E.CaSO4·1/2H2O
答案:AD
解析:### 背景知识
在燃煤电厂等工业设施中,脱硫装置的主要作用是去除烟气中的二氧化硫(SO₂),从而减少环境污染。脱硫的过程中通常使用石灰石(CaCO₃)或石灰(CaO)作为脱硫剂。这些脱硫剂与烟气中的SO₂反应,生成硫酸钙(CaSO₄)或亚硫酸钙(CaSO₃)等产物。
### pH值对结垢的影响
在脱硫系统中,pH值的控制是非常重要的。如果pH值过高,会导致脱硫液体中某些成分的溶解度下降,从而形成结垢。常见的结垢物质包括硫酸钙(CaSO₄)、亚硫酸钙(CaSO₃)等。下面详细解析每个选项。
#### 选项分析
**A: CaSO₃(亚硫酸钙)**
- **解释**:在脱硫过程中,亚硫酸钙是脱硫反应的中间产物,通常是在脱硫液的pH值较低时形成。当pH值升高时,CaSO₃的溶解度减少,这会导致其在系统中析出形成结垢。因此,pH值过高时,CaSO₃是一个常见的结垢物质。
- **结论**:选项A是正确的。
**B: CaO(石灰)**
- **解释**:CaO(石灰)通常是用作脱硫的原料,而不是结垢物质。石灰在水中会生成氢氧化钙(Ca(OH)₂),它本身不会在脱硫过程中形成结垢。
- **结论**:选项B是错误的。
**C: CaSO₄·2H₂O(石膏)**
- **解释**:石膏(CaSO₄·2H₂O)是一种常见的结垢物质,它的形成通常是在pH值较高时发生的。石膏是由硫酸钙(CaSO₄)与水结合形成的。pH值过高时,CaSO₄的溶解度降低,从而生成石膏。
- **结论**:选项C是正确的。
**D: CaCO₃(碳酸钙)**
- **解释**:碳酸钙(CaCO₃)的溶解度与pH值密切相关。pH值较高时,CaCO₃的溶解度下降,容易形成结垢。因此,当pH值过高时,CaCO₃也是可能形成的结垢物质。
- **结论**:选项D是正确的。
**E: CaSO₄·1/2H₂O(半水石膏)**
- **解释**:半水石膏(CaSO₄·1/2H₂O)是一种在一定条件下形成的结垢物质,但它的形成通常与pH值的变化关系不如CaSO₃、CaCO₃和CaSO₄·2H₂O明显。pH值过高时,它的形成可能性较低。
- **结论**:选项E是错误的。
### 总结
在脱硫运行中,pH值过高会导致亚硫酸钙(CaSO₃)、碳酸钙(CaCO₃)和硫酸钙(CaSO₄·2H₂O)的结垢。因此,正确的选项是 **A** 和 **C**。
为了帮助你更好地记住这些内容,你可以联想到实际的情况。例如,想象你在厨房里煮水,如果水中含有很多矿物质,当你加热水的时候,水分蒸发后矿物质就会沉积在锅底,形成结垢。这与脱硫系统中由于pH值控制不当而导致的结垢过程有相似之处。
A. A.应该有足够大的液气比
B. B.应有足够的浆液停留时间
C. C.保证浆液足够石膏晶种,维持浓度稳定
D. D.在强制氧化工艺中,确保亚硫酸盐的充分氧化
E. E.安排充足的停机时间清理
A. A.降低石膏质量
B. B.增加浆液对设备的磨损性
C. C.“封闭”吸收剂,使其失去活性
D. D.增加石膏脱水困难
E. E.有利于颗粒物达标
A. A.烟气中氯离子含量过高
B. B.工艺水中氯的含量过高
C. C.粉尘浓度增加
D. D.锅炉投油
E. E.脱硫剂中含有氯化物
A. A.吸收塔内氧化充分
B. B.加重了浆液对设备的磨损性
C. C.增加废水排放量
D. D.增加了脱硫石膏脱水难度
E. E.增大脱硫石膏处置难度
A. A.混匀矿成分
B. B.电除尘效率
C. C.烧结机燃烧温度
D. D.引风机开度
E. E.烧结机漏风率
A. A.灰垢
B. B.石膏垢
C. C.CSS垢
D. D.碳酸钙垢层
E. E.重金属垢层
解析:### 选项解析
1. **灰垢(A)**
- **定义**:灰垢指的是在湿法烟气脱硫系统中,由于烟气中的固体颗粒物(如飞灰)沉积在设备表面形成的垢层。这些颗粒物在系统的湿润环境中,可能与其他化学物质反应,导致结垢。
- **例子**:想象一下你在烹饪时,如果锅里有一些食材粘附在锅底,长时间未清理,这些食材会逐渐积累形成一层难以清除的油垢。类似的,烟气中的灰分会在脱硫设备中形成灰垢。
2. **石膏垢(B)**
- **定义**:石膏垢主要是由脱硫过程中产生的石膏(CaSO₄)沉积形成的。石膏是湿法脱硫过程中主要的副产品之一,当其浓度过高或者排放不畅时,容易在设备表面形成垢层。
- **例子**:石膏垢类似于在水泥搅拌器中积累的水泥残渣。由于石膏的低溶解度,长期积累会形成坚固的垢层,影响设备的运行效率。
3. **CSS垢(C)**
- **定义**:CSS垢(Calcium Sulfite Scale)是指脱硫过程中生成的亚硫酸钙(CaSO₃)沉积形成的垢层。虽然亚硫酸钙的溶解度比石膏高,但在系统中也可能形成沉积。
- **例子**:可以把CSS垢想象成类似于水管中积累的水垢,它会逐渐阻塞管道,影响流量和设备性能。
4. **碳酸钙垢层(D)**
- **定义**:碳酸钙垢层主要是由烟气中的二氧化碳与水中的钙离子反应生成的碳酸钙沉积物形成的。碳酸钙在湿法脱硫系统中较为常见,特别是在使用含钙的脱硫剂时。
- **例子**:碳酸钙垢层可以类比为水壶内壁的水垢,这种垢层是由于水中的钙离子与碳酸根离子反应生成的。
5. **重金属垢层(E)**
- **定义**:重金属垢层指的是系统中重金属(如铅、镉、汞等)在湿法脱硫过程中形成的沉积物。虽然这些重金属可能在某些情况下形成沉积物,但它们并不是主要的结垢类型。
- **例子**:重金属垢层类似于管道中出现的铁锈,但在湿法脱硫系统中,由于其含量和形成机制,它们不如其他类型的垢层常见。
### 总结
在湿法烟气脱硫系统中,主要的结垢类型包括:
- **灰垢(A)**:由固体颗粒物沉积形成的垢层。
- **石膏垢(B)**:由石膏沉积形成的垢层。
- **CSS垢(C)**:由亚硫酸钙沉积形成的垢层。
- **碳酸钙垢层(D)**:由碳酸钙沉积形成的垢层。
这些垢层的形成可能会影响湿法脱硫系统的效率,因此需要定期维护和清理。通过对比不同类型的垢层和实际生活中的类似现象,可以帮助更好地理解这些结垢问题的处理和预防。
A. A.挥发性
B. B.可燃性
C. C.毒性
D. D.强碱性
E. E.氧化性
A. A.降落到地面,形成硝酸盐或是硝酸
B. B.对臭氧层造成破坏
C. C.碳氢化合物混合时,在阳光照射下发生光化学反应生成光化学烟雾
D. D.对呼吸道有刺激作用
E. E.有利于植物对氮肥的吸收
A. A.低氮燃烧技术
B. B.炉膛喷射脱硝技术
C. C.烟气脱硝技术
D. D.LIFAC
E. E.生产制造复合肥
A. A.活性碳吸附法
B. B.选择性催化还原法
C. C.选择性非催化还原法
D. D.低温常压等离子体分解法
E. E.臭氧法